電子束曝光與離子束圖形產生器系統

自 1980 年成立以來，Raith 電子束曝光系統與離子束圖形產生器已經擁有超過 1000 多家用戶的實績。其中廣泛地應用於光電元件、光元件、微系統、半導體與超導體元件…等等的研究與開發領域。Raith 系統設備，具備了易學易懂且容易操作與維護的特性，同時系統規格一致通過科研單位的要求，因此廣受國家級研究單位與大專院校之研究所，如：中央研究院、台灣大學、清華大學、交通大學與中央大學等等科研與學術單位的使用。

此外，Raith 於 2013 年結合了 VISTEC 高效能的 Nanolithography system，讓 Raith 成為這個領域當中，電子束、離子束以及微納米加工技術以及系統供應的領航者。

Dedicated Electron Beam Lithography

Multi Technique Electron Beam Lithography

Focused Ion Beam Nanofabrication